【大紀元2024年02月06日訊】（大紀元專題部記者吳歡心綜合報導）受美國技術制裁的中共，對韓國的技術偷竊愈演愈烈。在金錢的誘惑下，韓國甚至出現親兄弟倆「前仆後繼」以身試法向中共洩露技術的事件。在一片要求加重處罰技術洩露罪犯的呼聲中，韓國最近提高了處罰力度。
弟弟因洩露技術被拘留 哥哥接手繼續犯罪
最近將韓國半導體濕式清洗設備技術洩露給中共的韓國某半導體清洗設備企業的9名成員被移交審判。此次技術洩露的主犯，過去親弟弟因同樣的罪行被拘留，此後哥哥代替弟弟經營公司，再次犯下了罪行。
韓國檢方1月29日拘留起訴了韓國半導體清洗設備A公司的實際營運者B某和中國營業總管、經營支援組長、設計負責人4人，他們涉嫌將韓國最大的半導體設備公司Semes的半導體清洗設備製造技術洩露給中國企業。同時還拘留起訴了參與犯罪的A公司5名職員。他們涉嫌違反韓國《防止不正當競爭法》《產業技術保護法》。
檢方透露，去年5月，他們偷偷將竊取Semes的技術後製作的半導體清洗設備出口給了中國C公司。同年9月，應C公司的要求，他們設計了與Semes相同的清洗設備，先後8次以拆開的方式向中國出口該設備零部件。如果將零部件拆開出口，就不會留下設備出口記錄。他們利用了這一點。
C公司收到這種拆開的零部件後，在中國組裝製作了清洗設備。該清洗設備是精密去除半導體製造工程中芯片表面產生的污染物質的設備，是Semes在世界上首次開發並成功批量生產，是用於20納米以下存儲器半導體製作的國家核心技術。
B某等人因此獲得了約34億韓元（約255萬美元）收入。
不僅如此，B某等人還與C公司共謀，準備將Semes的清潔裝備技術全部轉讓過去。
C公司提議，如果B某等人能夠在中國設立工廠，將為他們投資。他們接受該提案，在中國設立了公司及辦公室。
在此過程中，由於犯罪被揭發，事態沒有發展到在中國建立「複製工廠」的地步。
B某是因同樣的罪行被拘留並正在接受審判的A公司代表D某的親哥哥。
Semes研究員出身的D某因2起技術洩露事件於去年的年初被拘留起訴。
他涉嫌夥同Semes前職員委託Semes合作企業或在Semes退休時不返還相關信息的方式，以不正當的方法獲得了清洗設備技術信息和設計圖紙。之後，他用竊取的資料製造了半導體濕式清洗設備，並向C公司出口。
D某在一審中被判處9年有期徒刑，在最近的二審中，刑量被增加到了10年。
檢方推算，此次洩露的技術價值至少「數千億韓元（約數億美元）」。檢方相關人士表示，Semes此前投入該技術的金額約為2188億韓元（約1.6億美元），技術洩露導致競爭力下降，即使訂單減少1%，每年也會造成「約1萬億韓元（約7.5億美元）」的損失。
就B某在弟弟D某已經被拘留的情況下，卻仍然參與犯罪的原因，據韓媒透露，是因為中共的巨額金錢誘惑。
該媒體報導，只要韓國公司答應洩露一次技術，中國企業就會提出越來越無理的要求。最初，中國企業通過朝鮮族中介人接觸D某，得到了製作Semes清潔設備的核心圖紙，並獲得了清潔設備的供貨。
中國企業即使後來知道D某被拘留起訴，以及在一審中被判有期徒刑的事實，也持續要求D某的公司出口Semes清潔設備，甚至乾脆提議把工廠全部複製過來。
在巨額金錢的誘惑下，B某與職員們參與了犯罪。參與犯罪的職員中，還有和D某一起被起訴、被判緩刑的人。
韓國海外技術盜竊案九成涉中共 法院處罰不痛不癢
韓國技術洩露到海外的事件頻繁發生，絕大多數流向中國。根據韓國法務部《強化技術洩露犯罪量刑標準》的資料顯示，韓國產業技術洩露到海外的案件在2017年至2022年6年間共達117件，其中36項為國家關鍵技術。根據韓國司法部的數據，洩露到海外的所有案例中，92.3%涉及中共的技術盜竊。
韓國技術屢屢洩露給中共，原因除了與中共以高額金錢誘惑有關外，韓國法院處罰過輕也是一個主要原因。
據韓國國民力量黨議員洪碩晙（Hong Seokjun）從產業通商資源部收到的資料和大法院司法年鑒顯示，在2015年至2022年法院對違反《產業技術保護法》做出一審判決的114件中，判處有期徒刑的案件只有12件，而緩期執行有40件，罰款有11件。實刑宣判比重僅占一成。
韓國國家情報院產業機密保護中心一名調查官（因工作特性而匿名）近日向韓媒《東亞日報》指出期間韓國法院在量刑過輕方面的細節。
他透露，洩露技術的嫌疑人「寫了檢討書或遞交請求查明書後給予減刑」的情況很多。技術一旦洩露就結束了，但此前還「以技術沒有商用化為由，降低了刑罰」。
他還透露，法院很少宣判實刑，而且即使判實刑，平均宣判量也只有1年2個月。
韓國法院推進提高處罰水平
韓國法院對技術洩露不痛不癢的處罰多年來備受產業界和輿論指責，韓國產業通商資源部部長方文圭（Bang Moon-kyu）2023年年末也曾指出，對現行技術洩露犯罪的量刑標準與法定刑相比「低得離譜」。即使數十兆韓元（約數百億美元）的技術洩露到海外，也會因為是初犯或僅僅反省而被判緩期執行或大幅減刑，這種情況不應該存在。
在要求提高量刑的呼聲中，韓國最高法院量刑委員會1月中旬大幅提高了建議量刑。
量刑委員會建議，新設此前沒有特別量刑標準的國家核心技術等國外侵害條款，最高判處18年有期徒刑。
量刑委員會還新設了規定，如果竊取國家核心技術和產業技術，即使是初犯也不會酌情考慮，並限制緩期執行。
另外，考慮到洩露對象是容易複製的數字設計圖等，即使洩露嘗試失敗，也只有在受害物品被返還，並完全廢棄的情況下，才能將其作為減輕刑罰的因素。
考慮到洩露技術的金錢價值很難客觀計算的特性，加重處罰對象中還包括「侵害投入相當金額研究開發費的專利權、商業祕密、技術等的情況」。在「對保密有特別義務的人」的範圍中，明確包括客戶和派遣職員等，在技術洩露時加重處罰。
此次修訂案將通過聽證會等程序，於3月末確定。
此外，韓國專利廳近日表示，為防止技術掠奪，2024年1月末，包含防止技術竊取的各種對策的《防止不正當競爭及商業祕密保護相關法律》修訂案在國會全體會議上獲得通過。
該法案為了防止技術洩露，加強了民事上的救濟，將目前引入《不正當競爭防止法》的懲罰性損害賠償從3倍強化到5倍。這是為了提高對技術洩露的警惕，確保受害救濟實效性的措施。
另外，為了抑制法人有組織地侵犯商業祕密的行為，法人的罰款刑最多將加強到現行規定的3倍。韓國專利廳解釋說，這是考慮到侵犯商業祕密的犯罪中，法人的組織性犯罪相對較多。
